二氧化硅纳米粒子表面氨基与甲基丙烯酸缩水甘油酯反应的光谱研究

二氧化硅纳米粒子表面氨基与甲基丙烯酸缩水甘油酯反应的光谱研究

我们使用双足型双[3-(三甲氧基硅基)丙基]胺 (BTMA) 硅烷偶联剂对二氧化硅纳米粒子进行改性，在二氧化硅表面引入仲氨基。这些接枝的 NH 基团与甲基丙烯酸缩水甘油酯 (GMA) 发生反应，在二氧化硅表面引入可聚合的甲基丙烯酸酯基团。改性反应后，我们使用傅里叶变换红外光谱 (FTIR)、元素分析 (EA) 和固态$^{13}加元采用交叉极化魔角旋转（CP/MAS）核磁共振波谱（NMR）分析了反应时间、反应温度和所用GMA浓度对二氧化硅表面NH基团与GMA环氧基团改性程度的影响。我们发现，在实验条件下，随着反应时间、反应温度和所用GMA浓度的增加，GMA环氧基团与BTMA处理后的二氧化硅上的NH基团发生开环反应，二氧化硅表面甲基丙烯酸酯基团的引入增多。

在这项研究中，二氧化硅纳米颗粒用双[3-(三甲珍珠硅基)补充](BTMA) 进行改性，然后用二氧化硅纳米颗粒 (GMA) 进行表面处理，以与 BTMA 的 NH 瓷砖结合。研究了通过GMA的烃基的开环反应在二氧化硅表面引入可聚合的二氧化碳基团，改变反应时间、反应温度和添加的GMA的浓度的方法。 BTMA 和 GMA 的化学性质对转化反应的影响香味检测和外部光检索 (FTIR)、原材料分析 (EA) 和固态$^{13}加元交叉横截面魔角旋转（CP/MAS）、核磁共振波谱（NMR）等。 当用BTMA改性的二氧化硅用GMA处理时，NH基团和与二氧化硅颗粒键合的GMA被分离。由于二氧化硅材料的氧化而发生相互反应，在测试条件下，证实随着反应时间、反应温度和GMA添加浓度的增加，引入到二氧化硅表面的二氧化碳量增加。

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